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硅片表面金屬雜質檢測

硅片是半導體制造業的基礎材料，硅片表面極其少量的金屬雜質元素污染都可能造成器件的功能喪失或者可靠性變差，隨著半導體制程的不斷提高，對金屬離子污染物的控制也越來越嚴格。萊伯泰科提供了融合穩定、可靠、高靈敏度的ICP-MS產品，幫助半導體制造商在生產過程中執行檢測并減少污染，即使在高基質環境下，也可對晶圓制造的每個階段中的金屬雜質類型、來源和含量進行準確的檢測。此外，萊伯泰科的經驗豐富的工程師們將作為硅片生產企業及Fab工廠的堅實后盾，提供多方位技術支持。

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